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Nr. |
Ort und Datum |
Thema |
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67. |
Fraunhofer EMFT, München
28.11.2024 |
IIT 2024 |
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66. |
Fraunhofer IPMS, Dresden
16. Mai 2024 |
Siliciumcarbid |
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65. |
Universität Hannover,
23. November 2023 |
Implantierte Dosis |
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64. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
11. Mai 2023 |
Aktuelle und exotische Themen der Ionenimplantation |
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63. |
Fraunhofer EMTF, München
8. Dezember 2022 |
IIT 2022 |
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62. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
18. Mai 2022 |
Gemeinsames Treffen der Nutzergruppen Ionenimplantation und Heißprozesse & RTP |
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61. |
IMS Chips, Stuttgart
24. Oktober 2019 |
Aktuelle und exotische Themen der Ionenimplantation |
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60. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
4. April 2019 |
IIT 2018 |
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59. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
12. April 2018 |
Kontamination und Defektdichte |
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58. |
Vishay Siliconix, Itzehoe
9. November 2017 |
Implantation für Power Devices |
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57. |
X-FAB, Erfurt
30. März 2017 |
Dosisgenauigkeit und Reproduzierbarkeit |
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Erlanger Symposium Ionenimplantation
9. Dezember 2016 |
Aktuelle Forschungsthemen, Highlights und Rückblicke aus dem Gebiet der Ionenimplantation |
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56. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
8. Dezember 2016 |
Rückblick auf die IIT 2016,
IIT 2018 in Würzburg |
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55. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
7. April 2016 |
Vorstellung von Nutzergruppen und exotischen Anwendungen |
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54. |
Infineon Technologies, Regensburg
26. November 2015 |
Bewerbung IIT 2018 in Deutschland, Prozesskontrolle |
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53. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
26. März 2015 |
Vorstellung von Nutzergruppen und exotischen Anwendungen |
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52. |
Infineon Technologies, Dresden
13. November 2014 |
Rückblick auf die IIT 2014 sowie Vorstellung von Nutzergruppen |
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51. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
3. April 2014 |
Vakuumerzeugung und Prozesskontrolle |
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50. |
IHP GmbH, Frankfurt (Oder)
7. November 2013 |
Jubiläum der Nutzergruppe |
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49. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
11. April 2013 |
Prozesskontrolle,
Energieeffizienz |
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48. |
PLANSEE SE, Reutte/Österreich
27. September 2012 |
Rückblich auf die IIT 2012 sowie alle aktuellen Themen aus der Ionenimplantation |
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47. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
22. März 2012 |
Anlagen- und Prozessmonitoring |
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46. |
centrotherm GmbH & Co. KG, Blaubeuren
24. November 2011 |
Partikel: Anforderungen, Vermeidung & Messung |
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45. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
12. Mai 2011 |
Erfahrungen mit Chain-Implants,
Line etch roughness |
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44. |
Robert Bosch GmbH, Reutlingen
11. November 2010 |
Low power devices |
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43. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
6. Mai 2010 |
Neue Anforderungen in der Ionenimplantation, Implantation exotischer Elemente |
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42. |
Rubitec, Bochum
12. November 2009 |
Implantation für Leistungsbauelemente, Implantation von Ge-Ionen, Ionenmix |
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41. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
7. Mai 2009 |
Verschiedene Themen |
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40. |
ELMOS, Dortmund
24. Oktober 2008 |
IIT 2008 sowie Fernwartung, Vernetzung und Datensicherheit |
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39. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
9. Mai 2008 |
Verschiedene Themen |
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38. |
Forschungszentrum Dresden-Rossendorf
9. November 2007 |
Neue Dotierungen für zukünftige Bauelemente |
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37. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
11. Mai 2007 |
Neue Dotierungen für zukünftige Bauelemente, Statistik |
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36. |
Infineon, Villach
24. November 2006 |
Prozess- und Maschinenkontrolle, Clusterionen |
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35. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
19. Mai 2006 |
Kontamination / Erfahrungen mit alternativen Gassystemen |
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34. |
Reutte, Tirol
11. November 2005 |
International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS) |
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33. |
Fraunhofer IISB, Erlangen
13. Mai 2005 |
Exotische Ionen/Sicherheit |
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32. |
Micronas, Freiburg,
14. Mai 2004 |
Prozess- und Maschinenkontrolle |
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31. |
Fraunhofer IISB,Erlangen,
28. November 2003 |
Silicon on Insulator und
Batch Processing vs Single Wafer Processing |
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30. |
Texas Instruments, Freising,
16. Mai 2003 |
Sicherheit/Dosimetrie |
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29. |
Fraunhofer IISB, Erlangen,
08.11.2002 |
Aufladungseffekte (Charging) und Dosimetrie |
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28. |
IHP, Frankfurt (Oder),
26.04.2002 |
Devices / Implanter Matching und Kontamination |
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27. |
FhG, Erlangen,
16.11.2001 |
Source Drain Engineering und Kanaldotierung |
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26. |
Infineon, München,
11.5.2001 |
Neue Anlagen und Erfahrungen mit neuen Anlagen |
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25. |
FhG, Erlangen,
5.5.2000 |
Wartung und Requalifizierung
(3 MB) |
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24. |
FhG, Erlangen,
19.11.99 |
Großflächige Ionenimplantation
(19 MB) |
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23. |
FhG, Erlangen,
7.5.99 |
Kontrolle der Ionenimplantation
(12 MB) |
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22. |
IMSAS, Bremen,
12.11.98 |
Neue Implantationssysteme
(11 MB) |
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21. |
FhG, Erlangen,
29.5.98 |
Prozesskontrolle
(8 MB) |
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20. |
Siemens, Dresden,
30.10.97 |
Hochenergie, SDS
(15 MB) |
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19. |
Bosch, Reutlingen,
25.4.97 |
Neue Maschinentrends und FIB
(4 MB) |
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18. |
Thesys, Erfurt,
11.10.96 |
Charging
(6 MB) |
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17. |
Universität Bochum, Bochum,
26.4.96 |
Messtechnik, Analytik
(2 MB) |
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16. |
Siemens, Regensburg,
20.10.95 |
Messtechnik, Anlagenkontrolle
(8 MB) |
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15. |
FhG, Erlangen,
27.4.95 |
Flache pn-Übergänge
(3 MB) |
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14. |
Eaton, Kirchheim,
27.9.94 |
Vorstellung der Arbeitsgruppen
(3 MB) |
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13. |
ZMD, Dresden,
2.12.1993 |
Vorstellung der Arbeitsgruppen
(4 MB) |
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12. |
Philips, Hamburg,
11.2.9 |
Neue Bundesländer (Scanibal......) |
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11. |
FhG, Erlangen,
4.6.92 |
Umwelt, Entsorgung, Anlagenmodi |
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10. |
App. Mat., Ismaning,
2.10.91 |
Ausheilung, Defekte, Implantationsfehler |
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9. |
Siemens, Regensburg,
26.2.91 |
Anlagenentwicklung |
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8. |
IMS, Stuttgart,
26.9.90 |
SIMOX, Dosismessung, Round Robin |
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7. |
Siemens, Balanstr.,
31.1.90 |
Simulation, Meßtechnik |
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6. |
Varian, Stuttgart,
21.9.89 |
SPC |
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5. |
Siemens, Balanstr.,
26.1.89 |
Partikel und Kontamination |
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4. |
FhG, Erlangen,
22.9.88 |
Flood Gun, Teststrukturen, Simulation |
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3. |
Siemens, Balanstr.,
10.3.88 |
Sicherheit von Implantationsanlagen |
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2. |
IBM, Böblingen,
5.10.87 |
Charakterisierung, Simulation |
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1. |
Siemens, Balanstr.,
15.5.87 |
Gründerversammlung |
Fraunhofer Institute for Integrated Systems and Device Technology IISB