45. Treffen der Nutzergruppe Ionenimplantation

Begrüßung
Wilfried Lerch, centrotherm thermal solutions GmbH + Co. KG, Blaubeuren
Heiner Ryssel, Fraunhofer IISB, Erlangen

Elektrische Aktivierung von Dotanden durch Laser Tempern oberhalb der Löslichkeitsgrenze
Danilo Bürger, Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf e. V., Dresden

Ultra Fast Anneal in a Production Environment
Dirk-Wito Franke, Globalfoundries, Dresden

Oxidladungsgeneration in nitridierten Oxiden auf 4H-SiC
Christian Strenger, Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente (LEB), Universität Erlangen-Nürnberg

Sub-atmospheric Chemical Vapor Deposition of SiO₂ for Dielectric Layers in High Aspect Ratio TSVs
Marco Lisker, IHP GmbH, Frankfurt (Oder)

Gezielte Einstellung von Tropfenkondensation mittels Ionenimplantation
Andreas Paul Fröba, Lehrstuhl für Technische Thermodynamik, Universität Erlangen-Nürnberg

Silicium-Strahlungsdetektoren hergestellt in Zusammenarbeit mit der Fraunhofer-Gesellschaft
Florian Wiest, KETEK GmbH, München

Vakuumlöten für Leistungshalbleiter-Anwendungen
Stefan Moosmann, centrotherm thermal solutions GmbH + Co. KG, Blaubeuren

Lanthanoid Implantation for Effective Work Function Control in NMOS High-k/Metal Gate Stacks
Volker Häublein, Fraunhofer IISB, Erlangen

Dielektrische Schichten für passive Leistungshalbleiterbauelemente
Tobias Erlbacher, Fraunhofer IISB, Erlangen