43. Treffen der Nutzergruppe Ionenimplantation

Begrüßung
Heiner Ryssel, Fraunhofer IISB, Erlangen

Challenges for Implant in Crossing the Bridge from 32 nm to 22 nm and Beyond
Sandeep Mehta, Axcelis, Beverly, US

Doping of Vertical Si Nanowires by Ion Implantation
Wolfgang Skorupa, Forschungszentrum Dresden-Rossendorf

Einrichtungen zum technischen Strahlenschutz bei Protonenimplantation
Werner Schustereder, Dieter Fuchs, Infineon

Beaded Metals and Anhydrous Metal Halides for Semiconductor Processing
Manfred Zoermer, SAFC Hitech, Bromborough, UK

Erfahrungen mit der Implantation von Cäsium
Volker Häublein, Fraunhofer IISB, Erlangen

Lang- und Kurzzeitdriften bei photothermischer Dosisevaluation
Hans Geiler, JenaWave, Jena

Diskussion / Sonstiges