59. Treffen der Nutzergruppe Ionenimplantation

Begrüßung
Volker Häublein, Fraunhofer (IISB), Erlangen

Kurzvorstellung rubitec GmbH
Jan N. Klug, rubitec, Bochum

Vorstellung der Arbeitsgruppe
Jan Krügener, Institut für Materialien und Bauelemente der Elektronik, Universität Hannover

Introduction to ION-X®, a novel adsorbent-based sub-atmospheric delivery system for toxic implant gases
Volker Heilmann, NuMat Technologies, Skokie/USA

CV-Messung und Keithley 4200A als moderne Messtechnik-Lösung
Manfred Brenner, Tektronix, Germering

CV-Messung - Implanter Monitoring
René Geithner, X-FAB Semiconductor Foundries, Erfurt

Implantations from the Sky - Schutzschaltung gegen fatale Cosmic Ray Events in Leistungshalbleitern
Friedrich Kröner, Infineon Technologies AUSTRIA, Villach

Röntgen-Computertomographie in neuer Dimension, XXL-CT am Fraunhofer EZRT
Michael Salamon, Fraunhofer IIS, Fürth

Ion Implantation Through Graphene
Alexander Scheit, IHP, Frankfurt (Oder)

Metallkontamination an EMER-BIAS Axcelis GSD
Libor Janovsky, X-FAB Dresden

Kontaminationsanalysen am GSD Hochenergie-Implanter (Na+ Problem nach Diskwechsel)
Klaus Kerkel, Infineon Technologies, Regensburg

Energetische Kontamination bei der Al-Implantation
Volker Häublein, Fraunhofer IISB, Erlangen

Update IIT 2018
Volker Häublein & Heiner Ryssel, Fraunhofer IISB, Erlangen