Erlanger Symposium Ionenimplantation

Begrüßung
Lothar Frey, Fraunhofer IISB, Erlangen

Grußworte
Karl-Dieter Grüske, Universität Erlangen-Nürnberg
Alfred Gossner, Fraunhofer-Gesellschaft, München

Von der Nutzergruppe Ionenimplantation zur GMM und der Herausforderung neuer Materialien
Reinhard Ploss, Infineon Technologies, Neubiberg

Implantation and Nanoscience – Research Friendship IISB and MFA
József Gyulai, MFA, Budapest

Momente in der Ionenimplantation – Projizierte Reichweite: 20 Jahre
Volker Häublein, Fraunhofer IISB, Erlangen

Klein, aber OHO
Werner Schustereder, Infineon Technologies, Villach

The Role of Ion Implantation in Four Decades of CMOS Scaling and into the Future of Nanometer-scale Electronics
Michael I. Current, Current Scientific, San José

Advancement in Ion Implantation Annealing from Seconds to Milliseconds
Wilfried Lerch, Centrotherm, Blaubeuren

A Way to Ion Implantation – Some Reflections
Alexander Scheit, IHP, Frankfurt (Oder)

35 Years of International Collaboration on Ion Implantation
Mikio Takai, Osaka University, Osaka

40 Jahre Ionenimplantation
Heiner Ryssel, Fraunhofer IISB, Erlangen