Fraunhofer Institute for Integrated Systems and Device Technology IISBHeißprozesse und RTP
Die Nutzergruppe Heißprozesse und RTP ging aus der Nutzergruppe Ionenimplantation hervor. Seither werden die beiden Treffen an zwei aufeinander folgenden Tagen durchgeführt. Am Nachmittag des ersten Tages findet das Nutzertreffen Heißprozesse und RTP statt.
Das Ziel dieser Veranstaltung ist, ein offenes Forum für Diskussionen aller Heißprozess- und RTP-Nutzer zu schaffen und einen Erfahrungsaustausch zwischen den Nutzern und den Herstellern von Heißprozess- und RTP-Anlagen zu ermöglichen. Für die Interessenten ist die Teilnahme kostenlos. Beiträge in Form von Kurzvorträgen oder Vorstellungen von Problemen sind jederzeit willkommen. Hierbei wird auf aktuelle Probleme oder anwenderspezifische Neuerungen besonders eingegangen. Im Anschluß an das Treffen können bei einem gemeinsamen Abendessen, zusammen mit den Herstellern von Heißprozess- und RTP-Anlagen und Teilnehmern der Nutzergruppe Ionenimplantation, weitere Probleme diskutiert werden.
Das erste Treffen fand am 26. April 1996 in Bochum statt. Die Gruppe trifft sich zweimal im Jahr, im Frühjahr und im Herbst.
Die Veranstaltungen der Nutzergruppe Heißprozesse und RTP werden gemeinsam von der ITG-Fachgruppe 8.1.2 und der GMM-Fachgruppe 1.2.4 organisiert.