Nutzergruppentreffen  /  27. November 2024  -  28. November 2024

Treffen der Nutzergruppen "Heißprozesse und RTP" und "Ionenimplantation"

Vielen Dank für die zahlreiche Teilnahme am Treffen der GMM-Nutzergruppen

"Heißprozesse und RTP" am 27.11.2024

und 

"Ionenimplantation" am 28.11.2024

Wir werden zeitnah die uns zur Verfügung gestellten Vorträge hier zum Download anbieten. 

 

Tagesordnung 27.11.2024

Vorstellung des Fraunhofer EMFT
Wilfried Lerch, Fraunhofer EMFT, München
Anton Bauer, Fraunhofer EMFT, München

CMOS-compatible wafer-scale MOCVD of superconducting TiN in Through Silicon Vias for 3D integration of qubits
Alexandra Schewski, Fraunhofer EMFT, München

Thermal processing in semiconductor implant annealing: historical and technological evolution
Silke Hamm, Mattson Thermal Products, Dornstadt

CCS-FET - Chemical Sensors
Jamila Boudaden, Fraunhofer EMFT, München

Comparison of Annealing Quality after 3e15/cm2 50keV BF2+ implant between Rapid Thermal Annealing and Furnace Annealing
Leonhard Sturm-Rogon, Fraunhofer EMFT, München

RTP Parameter Optimierung
Carsten Hellinger, Fraunhofer IISB, Erlangen

Aluminum Josephson Junction Formation on 200 mm Wafers Using Different Oxidation Techniques
Simon Lang, Fraunhofer EMFT, München

Flash Lamp Annealing for Semiconductors and Related Materials
Lars Rebohle, Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf e.V.

 

Tagesordnung 28.11.2024

Eindrücke und Review der IIT2024, Toyama, Japan
Werner Schustereder, Ewald Wiltsche, Silke Hamm, Lutz Ende, Lars Rebohle, Volker Häublein, Wilfried Lerch et al.

IIT2024 - Challenges of High Dose Ion Implantations in Photo-Resist Covered Wafers for Power Device Processing
Matthias Schmeide, Infineon Technologies Dresden GmbH & Co.

PMR for ion implant monitoring
Lazlo Balogh, Semilab Germany GmbH

Chamber pressure monitoring and compensation
Stephan Preiwisch, Texas Instruments, Freising

HZDR Innovation GmbH - Vorstellung als Dienstleister für Hochenergie-Ionenimplantationen
Daniel Janke, HZDR Innovation GmbH

SiC Prozesssimulation mit analytischen Implantationsprofilen
Christophe Pixius, Fraunhofer IISB, Erlangen

Chalcogen implanted Silicon for monolithically integrated infrared optoelectronics
Shengqiang Zhou, HZDR Innovation GmbH

Diskussionsforum: Vorschau IIT2026

 

Download Gruppenfoto

 

Bei Interesse an den Nutzergruppen und deren Treffen kontaktieren Sie uns gerne!