53. Treffen der Nutzergruppe Ionenimplantation

Begrüßung
Volker Häublein, Fraunhofer IISB, Erlangen
Dietmar Henke, Globalfoundries, Dresden

Vorstellung Implantation Infineon Regensburg
Klaus Kerkel, Infineon Technologies, Regensburg

Vorstellung Implantation Bosch Reutlingen
Neil Fox, Robert Bosch, Reutlingen

Protonen Bestrahlung zur Krebstherapie
Heiner Ryssel, Fraunhofer IISB, Erlangen

Implant Gas-Technology
Barry Chambers, Entegris, Dresden

Productivity Advances in Delivery Systems and Dopant Gases for Ion Implantation
Olivier Penning, Praxair, Oevel/Belgien

Predictive Source Maintenance on Implanter VARIAN EHPi500
Martin Berger, ams, Unterpremstätten/Österreich

Entwicklung eines Implanters für den Ruhestand
Alexander Scheit, IHP, Frankfurt (Oder)

Isotopenimplantation zur Defektuntersuchung in Halbleitern
Hans Christian Alt, Hochschule München

Plasmaimmersions-Implantation gegen Korrosion an Metall-Legierungen
Wolfgang Skorupa, Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf

Vorstellung IHP
Alexander Scheit, IHP, Frankfurt (Oder)

Vorstellung der Implantationsgruppe ELMOS
Olaf Schreiter, Elmos Semiconductor, Dortmund