65. Treffen der Nutzergruppen "Ionenimplantation"

Begrüßung
Volker Häublein, Fraunhofer IISB, Erlangen
Werner Schustereder, Infineon Technologies Austria, Villach/Österreich

Vorstellung der Universität Hannover
Jan Krügener, Institut für Materialien und Bauelemente der Elektronik, Hannover

Importance of Dose Accuracy in Ion Implantation
Md Shadab Anwar, Infineon Technologies, Dresden

Implant Doping Challenges: Dose Rate & PR Compensation
Bernhard Krimbacher, Applied Materials, Dresden

Amorphisierung von Silizium bei der Implantation von BF2: Abschätzung der kritischen Dosis
Jan Krügener, Institut für Materialien und Bauelemente der Elektronik, Hannover

Between Hot and Cold - Tool Matching with and w/o PAI
Matthias Schmeide, Infineon Technologies Dresden

Modification of a Varian 350D's End-Station for Greater Flexibility, Part II: End Station Controller
Volker Häublein, Fraunhofer IISB, Erlangen

Shelf Life Time of Gas Bottles for Ion Implantation
Dirk-Wito Franke, Ion Doping, Dresden

Präsentation zum neuen lmplanter 'Ion Beam Services Flexion400' bei der UMS GmbH
Roland Poschadel, United Monolithic Semiconductors, Ulm

Call for Paper IIT 2024, Japan