Fraunhofer Institute for Integrated Systems and Device Technology IISBJune 02, 1999
Fraunhofer IISB, Erlangen
Workshop "PECVD"
PECVD
On Chip Thermal Management mit Diamantschichten
Dr. Herbert Güttler, DaimlerChrysler AG
DP Verfahren zur Abscheidung dotierter und undotierter Siliziumdioxidschichten
Dr. Markus Kirchhoff, Infineon Technologies AG
Ozonaktivierte selektive Abscheidung von Siliziumoxid
Dr. Wolfram Langheinrich, Infineon Technologies AG
SEMI standardization activities in Integrated Measurement
Ralph Trunk, Fraunhofer IISB