Internationales Treffen der Mikroelektronik-Planer
Vom 15. bis 17. April traf sich die internationale Elite der Halbleiterhersteller am Institut für Integrierte Schaltungen, Bereich Bauelementetechnologie (IISB), um die Technologie der nächsten 15 Jahre zu planen. In den “Roadmaps” werden bereits die Herstellschritte für die noch schwer vorstellbaren nächsten Strukturgrößen von unter 10 Nanometer auf 450 mm großen Siliciumscheiben beschrieben.
Professor Ryssel konnte fast 100 Vertreter aller namhaften Chiphersteller aus den USA, aus Asien und aus Europa begrüßen. Unter Leitung von Paolo Gargini von Intel und der internationalen Sematech-Organisation, einem Zusammenschluß der 13 weltweit größten Hableiterhersteller, wurden in 13 Arbeitgruppen die kurzfristigen und langfristigen technologischen Anforderungen an Halbleiterfertigungen diskutiert.
Mit welche neuen Materialien werden in 5 Jahren Transistoren gebaut? Welche Schaltungsdichten müssen die Belichtungsanlagen auflösen können? Wie lassen sich mit innovativen Fertigungs-Steuerungsmaßnahmen die immensen Kosten der Halbleiterfabriken senken?
Solche und ähnliche Fragen werden in der “ITRS-Roadmap” (International Technology Roadmap for Semiconductors) behandelt. Sie dient der Forschung und Entwicklung und vor allem den Zulieferern der Chip-Fabriken als Orientierung, um rechtzeitig mit den passenden Verfahren und Fertigungsgeräten auf dem Markt zu sein. Diese “Bibel der Halbleiterstrategen” war ursprünglich nur den US-Firmen zugänglich.
Inzwischen, mit der Einführung der 300-mm-Technologie, wurde erkannt, daß die hohe Innovationsgeschwindigkeiten nur in der interationalen Kooperation bewältigt werden können. Seit der Ausgabe 1999 arbeiten auch europäische und asiatische Experten mit. Das IIS-B bringt vor allem seine Kompetenz auf den Kernarbeitsgebieten Simulation und Fertigungskontrolle ein.
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