2014

Auf der E-MRS-Tagung 2014 in Lille wurde Herr Toni Lehmann vom Fraunhofer THM in Freiberg mit dem „E-MRS Symposium W Graduate Student Award“ ausgezeichnet. Der Wissenschaftler konnte zeigen, dass bei bestimmten Gefügeeigenschaften von multikristallinen Siliziumwafern nur noch 1% der Waferoberfläche so genannte Versetzungscluster beinhaltet. Bei multikristallinen Standardwafern hingegen beträgt der Flächenanteil mit diesen schädlichen Kristallfehlern mehr als 10%. Mit seinen Forschungsergebnissen liefert Herr Lehmann wichtige Erkenntnisse darüber, in welche Richtung sich der industrielle Herstellungsprozess für multikristalline Siliziumwafer künftig entwickeln sollte. Mit einem derartig optimierten Siliziummaterial lassen sich Solarzellen mit noch höheren Wirkungsgraden herstellen und damit auch die Kosten für die Erzeugung von Photovoltaikstrom weiter senken.

A new fast and contactless Defect Luminescence Scanner (DLS) for photoluminescence imaging of 4H-SiC epiwafers was developed under coordination of Fraunhofer IISB together with Intego GmbH. This DLS system enables a more efficient optimization of the production process of SiC epiwafers as well as an inline quality control along the device production chain. This will contribute to cost reduction in material and device production, and helps accelerating the further commercialization of SiC power devices.

Stefan Müller, Parlamentarischer Staatssekretär bei der Bundesministerin für Bildung und Forschung, hat sich bei einem Besuch am Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB am 15. Mai 2014 in Erlangen über die neuesten Forschungsentwicklungen zu leistungselektronischen Systemen informiert. Diese sind eine essentielle technische Komponente beim Umbau der Energie-versorgung.

Lokale Gleichstromnetze in Gebäuden oder Industrieanlagen können wirksam dazu beitragen, Energie deutlich effizienter zu nutzen. Insbesondere, wenn diese lokal erzeugt und gespeichert wird. Die Entwicklung zukunftsweisender Lösungen für die Gleichstromtechnik ist ein Schwerpunkt des Fraunhofer IISB. Auf der PCIM Europe 2014 in Nürnberg präsentiert das Institut vom 20. – 22. Mai eine breite Palette von leistungselektronischen Innovationen für die Energieversorgung – darunter ein 200-Kilowatt-DC/DC-Wandler mit einer Leistungsdichte von über 140 Kilowatt pro Liter.

57 Teilnehmerinnen und Teilnehmer beschäftigten sich eine Woche lang mit der Elektromobilität / Auch die 5. Auflage des Nachwuchsprogramms begeisterte / Einer der Höhepunkte: die Festrede von Daimler-CEO Dr. Dieter Zetsche anlässlich der Verleihung der DRIVE-E-Studienpreise

Staatssekretär Schütte und Fraunhofer-Vorstand Verl verleihen DRIVE-E-Studienpreise 2014. Fünf junge Nachwuchswissenschaftler wurden ausgezeichnet. Den ersten Preis in der Kategorie „Projekt-/Studien-/Bachelorarbeiten“ und damit 4.000 Euro erhielt Marcus Koschmieder, der in seiner Bachelorarbeit an der Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg die Modularisierung, Zuverlässigkeit und Sicherheit von Elektronikkomponenten in Elektrofahrzeugen behandelte.

Der Bayerische Forschungsverbund für Elektromobilität (FORELMO) präsentiert seine Aktivitäten auf der dritten Conference on Future Automotive Technology (CoFAT), die am 17. und 18. März 2014 auf dem Campus der TU München in Garching stattfindet. FORELMO bearbeitet unter dem Motto „Der elektrische Antriebsstrang von morgen – effizient, sicher, wirtschaftlich“ ausgewählte Fragestellungen zu den Schwerpunkten Elektromotoren, Batteriesysteme und leistungselektronische Schlüsselkomponenten.

Advanced simulation models and a computational framework for lithography-integrated directed self-assembly (DSA) of block copolymers will be developed within the European project CoLiSA.MMP. These software tools will aid the research and development of new materials, designs and process flows. By enhancing existing and future lithographic patterning techniques, DSA of block copolymers can help to fur-ther extend the impressive development in semiconductor technologies. Cost-efficient technologies for the miniaturization of patterns in semiconductor devices are the key to the development of more powerful computers, mobile devices and many other types of consumer and industrial electronics. CoLiSA.MMP combines European expertise in soft matter physics, block copolymer chemistry, lithographic process and computational lithography.